3−クロロパーフルオロ−2−ペンテン、オクタフルオロ−2−ペンチン、および1,1,1,4,4,5,5,5−オクタフルオロ−2−ペンテンの合成方法
专利摘要:
脱ハロゲン化触媒の存在下にCF3CF2CCl2CF2CF3(CFC−41−10mca)を水素と反応させてCF3CF2CCl=CFCF3(CFC−1419myx)を製造する工程を含む方法が開示される。脱ハロゲン化触媒の存在下にCF3CF2CCl=CFCF3(CFC−1419myx)を水素と反応させてCF3CF2C≡CCF3(オクタフルオロ−2−ペンチン)を製造する工程を含む方法もまた本明細書に開示される。脱ハロゲン化触媒の存在下にCF3CF2CCl2CF2CF3(CFC−41−10mca)を水素と反応させてCF3CF2C≡CCF3(オクタフルオロ−2−ペンチン)を製造する工程を含む方法もまた本明細書に開示される。加えて、圧力容器で、CF3CF2C≡CCF3をリンドラー触媒および水素と反応させてCF3CF2CH=CHCF3(1,1,1,4,4,5,5,5−オクタフルオロ−2−ペンテン)を製造する方法が開示される。 公开号:JP2011506611A 申请号:JP2010539716 申请日:2008-12-17 公开日:2011-03-03 发明作者:マリオ・ジョウゼフ・ナッパ 申请人:イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニーE.I.Du Pont De Nemours And Company; IPC主号:C07C17-23
专利说明:
[0001] 本開示はフルオロカーボンの合成方法に関する。特に、本方法は、3−クロロパーフルオロ−2−ペンテン、オクタフルオロ−2−ペンチンおよび1,1,1,4,4,5,5,5−オクタフルオロ−2−ペンテンの合成のための方法である。] 背景技術 [0002] フルオロカーボン業界は、モントリオール議定書(Montreal Protocol)の結果として段階的に廃止されつつあるオゾン破壊性のクロロフルオロカーボン(CFC)およびハイドロクロロフルオロカーボン(HCFC)の代替冷媒を見いだすために過去数十年間取り組んできた。多くの用途にとっての解決策は、冷媒、溶剤、消火剤、発泡剤および噴射剤として使用するためのハイドロフルオロカーボン(HFC)化合物の商業化であった。現時点で最も幅広く使用されつつあるHFC冷媒、HFC−134aなどの、これらの新規な化合物は、オゾン層破壊係数がゼロであり、従ってモントリオール議定書の結果としての現行規制の段階的廃止による影響を受けない。] 発明が解決しようとする課題 [0003] オゾン層破壊の懸念に加えて、地球温暖化がこれらの用途の多くで別の環境問題である。従って、低い地球温暖化係数を有するだけでなく低いオゾン層破壊基準の両方に適合する組成物が必要とされている。特定のハイドロフルオロオレフィンが両方の目標を達成すると考えられる。塩素を全く含有しない、また低い地球温暖化係数を有するハロゲン化炭化水素およびフルオロオレフィンを提供する製造方法が必要とされている。] 課題を解決するための手段 [0004] 本開示は、脱ハロゲン化触媒の存在下にCF3CF2CCl2CF2CF3(CFC−41−10mca)を水素と反応させてCF3CF2CCl=CFCF3(CFC−1419myx)を製造する工程を含む方法を提供する。] [0005] 本開示はまた、脱ハロゲン化触媒の存在下にCF3CF2CCl=CFCF3(CFC−1419myx)を水素と反応させてCF3CF2C≡CCF3(オクタフルオロ−2−ペンチン)を製造する工程を含む方法を提供する。] [0006] 本開示はまた、脱ハロゲン化触媒の存在下にCF3CF2CCl2CF2CF3(CFC−41−10mca)を水素と反応させてCF3CF2C≡CCF3(オクタフルオロ−2−ペンチン)を製造する工程を含む方法を提供する。] [0007] 本開示はまた、脱ハロゲン化触媒の存在下にCF3CF2CCl2CF2CF3(CFC−41−10mca)を水素と反応させてCF3CF2C≡CCF3(オクタフルオロ−2−ペンチン)を製造する工程を含む方法を提供する。] [0008] 多くの態様および実施形態が上に説明されてきたが、例示的であるにすぎず、限定的なものではない。本明細書を読んだ後で、当業者は、他の態様および実施形態が本発明の範囲から逸脱することなく可能であることを理解する。] [0009] 実施形態の任意の1つ以上の他の特徴および利益は、以下の詳細な説明から、および特許請求の範囲から明らかとなるであろう。] [0010] 以下に説明される実施形態の詳細を述べる前に、幾つかの用語が定義されるかまたは明確にされる。] [0011] 本明細書で用いるところでは、用語「含む(comprises)」、「含む(comprising)」、「含まれる(includes)」、「をはじめとする(including)」、「有する(has)」、「有する(having)」またはそれらの任意の他の変形は、非排他的な包含をカバーすることを意図される。例えば、要素のリストを含むプロセス、方法、物品、もしくは装置は、それらの要素のみに必ずしも限定されず、明確にリストされないか、またはかかるプロセス、方法、物品、もしくは装置に固有である他の要素を含んでもよい。さらに、相反する明確な記載がない限り、「または」は、包含的な「または」を意味し、そして排他的な「または」を意味しない。例えば、条件AまたはBは、次のいずれか1つで満たされる:Aは真であり(または存在し)かつBは偽である(または存在しない)、Aは偽であり(または存在せず)かつBは真である(または存在する)、およびAおよびBの両方とも真である(または存在する)。] [0012] 同様に、単数形(「a」または「an」)の使用は、本明細書に記載される要素および成分を記載するために採用される。これは、便宜上および本発明の範囲の一般的な意味を与えるために行われるにすぎない。この記載は、1つまたは少なくとも1つを包含すると読まれるべきであり、そして単数はまた、それが複数ではないことを意味することが明確でない限り複数を包含する。] [0013] 元素の周期表内の列に相当する族番号は、CRCHandbook of Chemistry and Physics、第81版(2000−2001年)に見られるような「新表記法(New Notation)」規則を用いている。] [0014] 特に明確にされない限り、本明細書で用いられる全ての技術的および科学的用語は、本発明が属する技術分野の当業者によって一般に理解されるものと同じ意味を有する。本明細書に記載されるものに類似のまたは等価の方法および材料を本発明の実施形態の実施または試験に用いることができるが、好適な方法および材料は以下に記載される。本明細書に言及される全ての刊行物、特許出願、特許、および他の参考文献は、特に節が言及されない限り、全体が参照により援用される。矛盾が生じた場合には、定義をはじめとして、本明細書が優先される。加えて、材料、方法、および実施例は例示的であるにすぎず、限定的であることを意図されない。] [0015] 本明細書で用いるところでは、反応ゾーンは、米国特許第6,540,933号明細書に記載されているような、ニッケル、鉄、チタンまたはそれらの合金から製造された反応容器であってもよい。これらの材料の反応容器(例えば、金属管)もまた使用されてもよい。合金について言及されるとき、それは、約1〜約99.9重量パーセントのニッケルを含有するニッケル合金、約0.2〜約99.8重量パーセントの鉄を含有する鉄合金、約72〜約99.8重量パーセントのチタンを含有するチタン合金を意味する。触媒で充填された、上記のような管であって、ニッケルまたは約40重量パーセント〜約80重量パーセントのニッケルを含有するものなどのニッケルの合金、例えば、InconelTM600ニッケル合金、HastelloyTMC617ニッケル合金またはHastelloyTMC276ニッケル合金でできている管の使用が注目すべきである。] [0016] 本発明は、1つは3−クロロパーフルオロ−2−ペンテン(CF3CF2CCl=CFCF3、CFC−1419myx)を製造するための、1つはオクタフルオロ−2−ペンチン(CF3CF2C≡CCF3)を製造するための、そして1つは1,1,1,4,4,5,5,5−オクタフルオロ−2−ペンテンを製造するための、3つの方法に関する。3−クロロパーフルオロ−2−ペンテン(CF3CF2CCl=CFCF3、CFC−1419myx)およびオクタフルオロ−2−ペンチン(CF3CF2C≡CCF3)、ならびに3,3−ジクロロパーフルオロペンタンは、1,1,1,4,4,5,5,5−オクタフルオロ−2−ペンテンを製造するための中間体として使用されてもよい。] [0017] 一実施形態では、脱ハロゲン化触媒の存在下にCF3CF2CCl2CF2CF3(CFC−41−10mca)を水素と反応させてCF3CF2CCl=CFCF3(CFC−1419myx)を製造する工程を含む方法が提供される。] [0018] 一実施形態では、CFC−41−10mcaは、触媒の存在下にCFC−12(CF2Cl2、ジクロロジフルオロメタン)とTFE(テトラフルオロエチレン、CF2=CF2)との付加反応によって製造されてもよい。一実施形態では、この付加反応用の触媒は、ハロゲン化アルミニウム触媒を含む。ハロゲン化アルミニウム触媒組成物は、AlClxBryF3−x−y(式中、xの平均値は0〜3であり、yの平均値は0〜3−xであり、ただし、xおよびyの平均値が両方とも0であることはない)のバルク式を有してもよい。別の実施形態では、xは約0.10〜3.00であり、yは0である。このタイプのハロゲン化アルミニウム組成物は公知であり;米国特許第5,157,171号明細書および同第5,162,594号明細書を参照されたい。場合によっては、CFC−114aがハロゲン化アルミニウム組成物の形成に用いられてもよい。こうして、幾つかの実施形態では、十分に過剰のCFC−114aは、フッ素含有触媒が得られるように無水塩化アルミニウムからのその場でのAlClxF3−xの生成を可能にする。] [0019] CFC−12およびTFEの両方とも商業的に入手可能であるか、または当該技術分野で公知の方法によって製造されてもよい。] [0020] CFC−12とTFEとを含む付加反応は、CFC−12の1モル当たりTFEの1モルの化学量論をベースとしている。しかしながら、過剰のどちらかの反応剤が必要に応じて使用されてもよい。過剰のCFC−12は、TFEとそれ自体とのシクロ付加を減らすかもしれない。過剰のTFEは、シクロ付加反応物などのTFEベースの副生物を促進するかもしれない。典型的には、TFE対CFC−12のモル比は約3対1〜約1.5対1の範囲であってもよい。] [0021] 一実施形態では、付加反応工程は連続様式で行われてもよい。一実施形態では、連続モードで、CFC−12とTFEとの混合物は、生成物流れを形成するために好適な温度および圧力でハロゲン化アルミニウム組成物(それは攪拌下にあってもよい)のベッドまたはボディ中を通してまたはその上方を通されてもよく、所望の生成物(例えば、CFC−41−10mca)は、分留などの従来法によってその流れから回収されてもよい。] [0022] 別の実施形態では、付加反応は回分様式で行われてもよい。一実施形態では、回分プロセスにおいて、反応剤とハロゲン化アルミニウム組成物とは、反応混合物を形成するために好適な反応器で組み合わせられ、混合物は、所望の程度の転化が得られるまで好適な温度および圧力で(一般に攪拌下に)保持されてもよい。一実施形態では、反応器は最初にハロゲン化アルミニウム組成物、および任意選択的に希釈剤を装入され、次にCFC−12およびTFEが所望のモル比で(別個の流れとしてかまたは組み合わせた流れとして)反応器へ供給され、反応が実質的に完了するまで反応器内に保たれる。反応器がCFC−12を供給され、ハロゲン化アルミニウム組成物がTFEの実質的な不存在下に反応器に供給される場合、反応器および成分は、異なるフッ素含有率を有するメタンへのCFC−12の不均化を妨げるために比較的低温(例えば、約−78℃〜10℃)に保たれるべきである。] [0023] 一実施形態では、付加反応は、CFC−12およびTFE用の溶媒または希釈剤を使って行われてもよい。典型的には、CFC−12およびTFEは希釈されるが、希釈剤は主として、付加反応で生成したCFC−41−10mcaであってもよい。幾つかの実施形態では、使用されてもよい溶媒には、CH2Cl2、CHCl3、CCl4、CHCl2CF3、CClF2CClF2、およびシクロ−C4Cl2F6ならびにそれらの混合物が含まれる。] [0024] 一実施形態では、付加反応ゾーン温度は典型的には約0℃〜約100℃の範囲にある。別の実施形態では、付加反応ゾーン温度は約20℃〜約80℃の範囲にある。] [0025] 一実施形態では、反応圧力は広範囲にわたって変わってもよい。別の実施形態では、反応は、高められた圧力、特に、用いられる反応温度に従って自生的に発生した圧力で実施される。ある種の実施形態では、圧力は、未反応CFC−12およびTFEの量を制御することによって調節されてもよい。] [0026] 一実施形態では、一般に用いられる温度で、反応時間は典型的には約0.2時間〜12時間である。] [0027] 一実施形態では、用いられるハロゲン化アルミニウム組成物の量は、CFC−114a反応剤の重量を基準として約1〜約20重量パーセントの範囲にある。] [0028] 一実施形態では、付加反応ゾーン(連続または回分)からの流出物は典型的には、CFC−41−10mca、未反応のCFC−12および/またはTFE、CClF2CF2CF2Cl(CFC−216ca)、ならびにCCl3CF2CF3(CFC−215cb)を含む。流出物はまた、CCl4(CFC−10)、CCl3F(CFC−11)、およびC3Cl4F4(CFC−214)などの1つ以上の他の副生物を含むかもしれない。] [0029] 一実施形態では、反応生成物は、濾過および/または蒸留などによる好適な従来法を用いて反応ゾーンから回収されてもよい。別の実施形態において、回分モードでは、反応生成物をハロゲン化アルミニウム組成物から分離すること、および分離されたハロゲン化アルミニウム組成物を次の回分に使用することが一般に好都合である。] [0030] 上で本明細書に記載された付加反応のさらなる詳細は、米国特許第6,229,058号明細書に見いだされ得る。] [0031] 一実施形態では、上記のような付加反応で生成したCFC−41−10mcaは、接触脱ハロゲン化によってCFC−1419myxを製造するために使用することができる。] [0032] 一実施形態では、CFC−41−10mcaは、付加反応ゾーンからの流出物から分離される。別の実施形態では、付加反応ゾーンからの流出物中に存在するCFC−41−10mcaは、CFC−1419myxを製造するための脱ハロゲン化反応ゾーンに直接供給される。] [0033] 他の実施形態では、CFC−41−10mcaは、米国特許第5,416,246号明細書に開示されている方法、ならびに他の公知の方法を含む当該技術分野で公知の他の方法によって製造されてもよい。] [0034] 一実施形態では、本開示はまた、脱ハロゲン化触媒の存在下にCF3CF2CCl2CF2CF3(CFC−41−10mca)を水素と反応させてCF3CF2CCl=CFCF3(CFC−1419myx)を製造する工程を含む方法を提供する。] [0035] 一実施形態では、CFC−41−10mcaをCFC−1419myxに転化する方法のために使用される触媒は、脱ハロゲン化触媒であってもよい。銅、ニッケル、クロム、パラジウム、およびルテニウムを含有する脱ハロゲン化触媒は当該技術分野では公知である。それらは、Heterogeneous Catalysis in Industrial Practice、第2版、(McGraw−Hil,New York,1991年)での87−112ページにSatterfieldによって概して記載されているような沈殿法か含浸法かのいずれかによって調製されてもよい。] [0036] 一実施形態では、脱ハロゲン化のための触媒は、銅/炭素、銅/フッ化カルシウム、パラジウム/硫酸バリウム、パラジウム/塩化バリウム/アルミナ、Lindlar触媒(鉛で被毒されたパラジウム/CaCO3)、銅/ニッケル/クロム/フッ化カルシウム、ならびに銅とニッケルとの非担持合金からなる群から選択される。] [0037] 別の実施形態では、触媒は、銅/炭素、銅/フッ化カルシウム、銅およびニッケル/炭素、ニッケル/炭素、銅/ニッケル/クロム/フッ化カルシウムならびに銅とニッケルとの非担持合金からなる群から選択される。一実施形態では、炭素またはフッ化カルシウム担体上の銅の量は約1重量%〜約25重量%である。一実施形態では、炭素担体は酸洗炭素であってもよい。] [0038] 別の実施形態では、触媒は、約0.05%〜10重量%のパラジウムを含有してもよいパラジウム/硫酸バリウム触媒である。別の実施形態では、銅およびニッケル/炭素は、炭素担体上に結合した約1〜約25重量%の銅およびニッケルを含有してもよい。ある種の実施形態では、炭素担体は、他の触媒について本明細書で先に記載されたような炭素担体のいずれかであってもよい。銅およびニッケル/炭素中の銅対ニッケルの重量比は、約2:1〜約1:2の範囲であってもよい。] [0039] 一実施形態では、パラジウム/塩化バリウム/アルミナ触媒は、触媒組成物の総量に対して約1重量%から約25重量%の塩化バリウムおよび約0.05重量%〜約10重量%のパラジウムを含有してもよい。パラジウム/塩化バリウム/アルミナ触媒の調製は、その開示が参照により本明細書に援用される、米国特許第5,243,103号明細書に記載されている。] [0040] 一実施形態では、脱ハロゲン化触媒は、銅/ニッケル/クロム/フッ化カルシウムであってもよい。一実施形態では、銅/ニッケル/クロム/フッ化カルシウム触媒中の銅:ニッケル:クロム酸化物のモル比は、約0〜約1銅、約0.5〜約3.0ニッケル、および約0〜約2クロムである。一実施形態では、銅/ニッケル/クロム/フッ化カルシウム触媒中の銅:ニッケル:クロムのモル比は、1.0:1.0:1.0である。別の実施形態では、このモル比は1.0:2.0:1.0である。さらに別の実施形態では、モル比は1.0:2.0:0.25である。さらに別の実施形態では、モル比は、0.5:3.0:0.5である。さらに別の実施形態では、モル比は0.5:0.5:2.0である。さらに別の実施形態では、モル比は0:3.0:1.0である。さらに別の実施形態では、モル比は1:3.0:0である。一実施形態では、全触媒材料対担体の重量比は、約1:2〜約2:1であってもよい。銅/ニッケル/クロム触媒の調製は、米国特許第2,900,423号明細書に記載されている。] [0041] 一実施形態では、銅とニッケルとの非担持合金には、その開示が参照により本明細書に援用される、Journal of Catalysis、81(1983)、204−13ページにBoudartによって記載されているものが含まれる。一実施形態では、触媒中のCu:Niのモル比は、約1:99〜約99:1の範囲であってもよい。別の実施形態では、Cu:Niのモル比は約1:1である。] [0042] 一実施形態では、脱ハロゲン化反応ゾーン温度は典型的には約200℃〜約500℃の範囲にある。別の実施形態では、付加反応ゾーン温度は約300℃〜約450℃の範囲にある。] [0043] 一実施形態では、脱ハロゲン化反応圧力は広範囲にわたって変わってもよい。別の実施形態では、反応は高められた圧力で実施される。] [0044] 一実施形態では、脱ハロゲン化反応のための水素対有機(CFC−41−10mca)供給物のモル比は、約0.5:1〜約25:1の範囲である。別の実施形態では、水素対有機供給物のモル比は、約1.5:1〜約2.5:1の範囲である。] [0045] 脱ハロゲン化反応の一実施形態では、プロセスのための接触時間は約10〜約120秒の範囲である。] [0046] 脱ハロゲン化触媒の存在下にCF3CCl=CFCF3(CFC−1419myx)を水素と反応させ、こうしてCF3C≡CCF3(ヘキサフルオロ−2−ブチン)を製造する工程を含む方法もまた本明細書に提供される。] [0047] 一実施形態では、CFC−1419myxは、ヘキサフルオロ−2−ブチン(CF3C≡CCF3)を製造するためにより多くの水素とさらに反応させられてもよい。この第2の脱ハロゲン化反応は、CFC−41−10mcaをCFC−1419myxに転化するための脱ハロゲン化反応について上に記載されたものと同じ条件下におよび同じ触媒を使って行われてもよい。別の実施形態では、条件は、オクタフルオロ−2−ペンチンの生成を最適化し、かつ、望ましくない副生物を最小限にするために前の脱ハロゲン化反応と異なってもよい。] [0048] 別の実施形態では、ヘキサフルオロ−2−ペンチンをCFC−41−10mcaから製造するための2つの反応は、単一段階で行われてもよい。このように、本発明は、触媒の存在下にCF3CF2CCl2CF2CF3(CFC−41−10mca)を水素と反応させてCF3CF2C≡CCF3(オクタフルオロ−2−ペンチン)を製造する工程を含む方法をさらに提供する。] [0049] オクタフルオロ−2−ペンチンをCFC−41−10mcaから製造するための一段階プロセスの一実施形態では、反応器流出物は、CFC−1419myx、オクタフルオロ−2−ペンチン、および任意の未反応CFC−41−10mcaを含むかもしれない。反応流出物は、CH4、CHF3(HFC−23)、CF3CF=CFCF2CF3(パーフルオロ−2−ペンテン、もしくはpfp2)、パーフルオロシクロペンテン(CFC−C1418)、CF2=CClCF3(2−クロロペンタフルオロプロペン、もしくはCFC−1215xc)、1−ヒドロパーフルオロシクロペンテン(HFC−C1427)、CF3CH=CClCF3(2−ヒドロ−3−クロロヘキサフルオロ−2−ブテンもしくはHFC−1326)、CF3CH=CFCF2CF3(2−ヒドロパーフルオロ−2−ペンテンもしくはHFC−1429)、またはそれらの混合物などのある種の副生物を任意選択的に含有するかもしれない。] [0050] 本発明のさらなる態様によれば、1,1,1,4,4,5,5,5−オクタフルオロ−2−ペンテンの製造方法が提供される。この方法では、オクタフルオロ−2−ペンチンが1,1,1,4,4,5,5,5−オクタフルオロ−2−ペンテンを製造するために水素化反応によってさらに反応させられてもよい。1,1,1,4,4,5,5,5−オクタフルオロ−2−ペンチンは、2つの立体異性体、EまたはZ(それぞれ、トランスまたはシス)の1つとして存在するかもしれない。水素化反応の一実施形態では、E異性体が主生成物であるかもしれない。水素化反応の別の実施形態では、Z異性体が主生成物であるかもしれない。さらに別の実施形態では、1,1,1,4,4,5,5,5−オクタフルオロ−2−ペンテンをオクタフルオロ−2−ペンチンから製造するための水素化反応の生成物は、本質的に等モル量のEおよびZ異性体のそれぞれを生成するかもしれない。] [0051] 本明細書で用いるところでは、主異性体とは、特定の異性体が50モルパーセント超で生成することを意味する。本明細書で用いるところでは、本質的に等モル量とは、EおよびZ異性体のそれぞれが約50モルパーセントで生成することを意味する。] [0052] 一実施形態では、水素化法は、1,1,1,4,4,5,5,5−オクタフルオロ−2−ペンチンを、圧力容器で、水素化触媒および水素と反応させて1,1,1,4,4,5,5,5−オクタフルオロ−2−ペンテンを製造する工程を含む。] [0053] 一実施形態では、水素化触媒は、当該技術分野で公知の任意の水素化触媒を含んでもよい。別の実施形態では、水素化触媒は、任意の金属水素化触媒を含んでもよい。金属触媒は、担持されていても担持されていなくてもよい。別の実施形態では、特に、水素化触媒は、白金、パラジウム、ロジウム、およびルテニウムをはじめとする、任意の白金族金属であってもよい。別の実施形態では、水素化触媒は卑金属触媒を含んでもよい。特に、水素化触媒は、ニッケルをベースとする卑金属触媒(ラネー(Raney)ニッケルなどの)およびニッケルと銅、マンガン、亜鉛、およびクロムとの組み合わせを含んでもよい。さらに別の実施形態では、水素化触媒はリンドラー(Lindlar)触媒を含んでもよい。] [0054] リンドラー触媒は、鉛化合物で不活性化されたまたは調整された、不均一パラジウム触媒/炭酸カルシウム担体である。鉛化合物は、酢酸鉛、酸化鉛、または任意の他の好適な鉛化合物であることができる。一実施形態では、触媒は、炭酸カルシウムのスラリーの存在下にパラジウム塩の還元、引き続く鉛化合物の添加によって調製される。一実施形態では、パラジウム塩は塩化パラジウムである。別の実施形態では、触媒は、キノリンで不活性化されるかまたは調整される。パラジウム/担体の量は典型的には5重量%であるが、任意の触媒有効量であってもよい。] [0055] 一実施形態では、使用される触媒の量は、オクタフルオロ−2−ペンチンの量の約0.5重量%〜約4重量%である。別の実施形態では、使用される触媒の量は、オクタフルオロ−2−ペンチンの量の約1重量%〜約3重量%である。さらに別の実施形態では、使用される触媒の量は、フッ素化オクタフルオロ−2−ペンチンの量の約1重量%〜約2重量%である。] [0056] 幾つかの実施形態では、水素化反応は溶媒中で行われる。かかる一実施形態では、溶媒はアルコールである。典型的なアルコール溶媒には、エタノール、i−プロパノールおよびn−プロパノールが含まれる。別の実施形態では、溶媒はフルオロカーボンまたはハイドロフルオロカーボンである。典型的なフルオロカーボンまたはハイドロフルオロカーボンには、1,1,1,2,2,3,4,5,5,5−デカフルオロペンタンおよび1,1,2,2,3,3,4−ヘプタフルオロシクロペンタンが含まれる。] [0057] 一実施形態では、本方法は回分式プロセスで行われる。] [0058] 別の実施形態では、本方法は気相での連続プロセスで行われる。] [0059] 一実施形態では、触媒の存在下でのオクタフルオロ−2−ペンチンと水素との反応は、各追加で約100psi以下の容器圧力の増加で、水素を数回に分けて追加することで行われてもよい。別の実施形態では、水素の追加は、容器圧力が各追加で約50psi以下増加するように制御される。一実施形態では、オクタフルオロ−2−ペンチンの少なくとも50%を1,1,1,4,4,5,5,5−オクタフルオロ−2−ペンテンに転化するのに十分な水素が水素化反応で消費された後、水素を反応の残りのためにより大きい増分で加えることができる。別の実施形態では、オクタフルオロ−2−ペンチンの少なくとも60%を1,1,1,4,4,5,5,5−オクタフルオロ−2−ペンテンに転化するのに十分な水素が水素化反応で消費された後、水素を反応の残りのためにより大きい増分で加えることができる。さらに別の実施形態では、オクタフルオロ−2−ペンチンの少なくとも70%を1,1,1,4,4,5,5,5−オクタフルオロ−2−ペンテンに転化するのに十分な水素が水素化反応で消費された後、水素を反応の残りのためにより大きい増分で加えることができる。一実施形態では、水素追加のより大きい増分は300psiであることができる。別の実施形態では、水素追加のより大きい増分は400psiであることができる。] [0060] 一実施形態では、加えられる水素の量は、オクタフルオロ−2−ペンチンの1モル当たり約1モル当量である。別の実施形態では、加えられる水素の量は、オクタフルオロ−2−ペンチンの1モル当たり、約0.9モル〜約1.3モルである。さらに別の実施形態では、加えられる水素の量は、オクタフルオロ−2−ペンチンの1モル当たり、約0.95モル〜約1.1モルである。さらに別の実施形態では、加えられる水素の量は、オクタフルオロ−2−ペンチンの1モル当たり、約0.95モル〜約1.03モルである。] [0061] 一実施形態では、水素化は周囲温度で行われる。別の実施形態では、水素化は周囲温度より上で行われる。さらに別の実施形態では、水素化は周囲温度より下で行われる。さらに別の実施形態では、水素化は約0℃より下の温度で行われる。] [0062] 連続プロセスの実施形態では、オクタフルオロ−2−ペンチンと水素との混合物が、触媒を含有する反応ゾーンに通される。一実施形態では、水素対オクタフルオロ−2−ペンチンのモル比は約1:1である。連続プロセスの別の実施形態では、水素対オクタフルオロ−2−ペンチンのモル比は1未満:1である。さらに別の実施形態では、水素対オクタフルオロ−2−ペンチンのモル比は約0.67:1.0である。] [0063] 連続プロセスの一実施形態では、反応ゾーンは周囲温度に維持される。連続プロセスの別の実施形態では、反応ゾーンは30℃の温度に維持される。連続プロセスのさらに別の実施形態では、反応ゾーンは約40℃の温度に維持される。] [0064] 連続プロセスの一実施形態では、オクタフルオロ−2−ペンチンおよび水素の流量は、約30秒の反応ゾーンでの滞留時間を提供するように維持される。連続プロセスの別の実施形態では、オクタフルオロ−2−ペンチンおよび水素の流量は、約15秒の反応ゾーンでの滞留時間を提供するように維持される。連続プロセスのさらに別の実施形態では、オクタフルオロ−2−ペンチンおよび水素の流量は、約7秒の反応ゾーンでの滞留時間を提供するように維持される。] [0065] 反応ゾーンでの接触時間が反応ゾーンへのオクタフルオロ−2−ペンチンおよび水素の流量を増加させることによって減少することは理解されるであろう。流量が増加するにつれて、これは、単位時間当たり水素化されるオクタフルオロ−2−ペンチンの量を増加させるであろう。水素化は発熱性であるので、反応ゾーンの長さおよび直径、ならびに熱を消散させるその能力に依存して、より高い流量では所望の温度を維持するために外部冷却源を反応ゾーンに提供することが望ましいかもしれない。] [0066] 連続プロセスの一実施形態では、リンドラー触媒中の担体上のパラジウムの量は5重量%である。別の実施形態では、リンドラー触媒中の担体上のパラジウムの量は5重量%より大きい。さらに別の実施形態では、担体上のパラジウムの量は約5重量%〜約1重量%であることができる。] [0067] 一実施形態では、回分式または連続水素化プロセスの完了時に、1,1,1,4,4,5,5,5−オクタフルオロ−2−ペンテンを、例えば、分留をはじめとする、任意の従来法によって回収することができる。別の実施形態では、回分式または連続水素化プロセスの完了時に、1,1,1,4,4,5,5,5−オクタフルオロ−2−ペンテンは、さらなる精製工程を必要としないほどに十分な純度のものである。] [0068] 本明細書に記載される概念は、特許請求の範囲に記載される本発明の範囲を限定しない、以下の実施例でさらに記載される。] [0069] 実施例1 CFC−41−10mca(CF3CF2CCl2CF2CF3)の合成 400mlのHastelloyTMC振盪機管に、3gのアルミニウムクロロフルオリド(AlClxF3−x)を装入した。この管を密封し、−78℃に冷却し、排気し、窒素で3回パージし、50g(0.41モル)のCCl2F2を装入した。管を次にバリケードに入れて攪拌した。25g(0.25モル)のTFEを加え、管を約15分にわたって60℃に加熱し;圧力は80psigに上昇した。温度を60℃に1.3時間保持し(圧力=80〜85psig)、次に80℃に上げ、1時間保持した(圧力=112〜116psig)。次の日に管から排出させて茶色固体上の54.7gの透明な上澄液を得た。GCMSおよび19F NMRによる透明な上澄液生成物の分析は、表1に示される組成を示した。] [0070] ] [0071] 実施例2 CFC−1419myxおよびオクタフルオロ−2−ペンチンへのCFC−41−10−mcaの転化 破砕し、12/20メッシュに篩分けした、5cc(6.54g)のNi/Cu/Cr/CaF2ペレットでInconelTM管(外径5/8インチ)を満たした。この触媒は、米国特許第2,900,423号明細書に記載されている方法によって製造されてもよい。触媒床の温度を350℃に上げ、窒素(50sccm、8.3×10−7m3)で60分間、次に水素で30分間パージした。依然としてH2で60分間パージしながら温度を次に425℃に上げた。CFC−41−10mcaを次に107℃で蒸発させ、表2に示される条件で上記の触媒上で水素と反応させた。反応生成物の分析はまた、表2に示されるような結果を示した。] [0072] ] [0073] 実施例3 実施例3は、1重量%触媒でのオクタフルオロ−2−ペンチンの水素化を実証する。] [0074] 1.3LのHastelloy(登録商標)反応器へ10gのリンドラー触媒を装填する。次に、オクタフルオロ−2−ペンチン650g(3.06モル)を反応器に加える。水素を次に、Δp=50psiを超えない増分で、ゆっくり加える。合計3モルのH2を反応器に加える。ガスクロマトグラフィーによる生成物の分析は、オクタフルオロ−2−ペンチンの大部分が、少量の飽和CF3CH2CH2CF2CF3と共に、CF3CH=CHCF2CF3へ転化されていることを示す。] [0075] 概要または実施例で上に記載された作業の全てが必要とされるわけではないこと、具体的な作業の一部は必要とされないかもしれないこと、ならびに1つ以上のさらなる作業が記載されたものに加えて行われてもよいことに留意されたい。その上さらに、作業が言及される順番は必ずしもそれらが行われる順番ではない。] [0076] 前述の明細書で、概念は具体的な実施形態に関して記載されてきた。しかしながら、当業者は、様々な修正および変更が下の特許請求の範囲に記載されるような本発明の範囲から逸脱することなく行われ得ることを理解する。従って、本明細書および数字は限定的な意味ではなく例示的な意味で考慮されるべきであり、全てのかかる修正は、本発明の範囲内に包含されることが意図される。] [0077] 利益、他の利点、および問題の解決策は、具体的な実施形態に関して上に記載されてきた。しかしながら、利益、利点、問題の解決策、および任意の利益、利点、または想到されるかもしくはより顕著になるための解決策をもたらすかもしれないいかなる特徴も、特許請求の範囲のいずれかまたは全ての決定的に重要な、必要な、または本質的な特徴と解釈されるべきではない。] 実施例 [0078] ある種の特徴は、明確にするために、別個の実施形態との関連で本明細書に記載されており、単一実施形態で組み合わせて提供されてもよいことが理解されるべきである。逆に、簡潔にするために、単一実施形態との関連で記載される様々な特徴はまた、別々にまたは任意の副次的組み合わせで提供されてもよい。さらに、範囲で記載される値の言及には、当該範囲内のそれぞれのおよびあらゆる値が含まれる。]
权利要求:
請求項1 脱ハロゲン化触媒の存在下にCF3CF2CCl2CF2CF3(CFC−41−10mca)を水素と反応させてCF3CF2CCl=CFCF3(CFC−1419myx)を製造する工程を含む方法。 請求項2 脱ハロゲン化触媒の存在下にCF3CF2CCl=CFCF3(CFC−1419myx)を水素と反応させてCF3CF2C≡CCF3(オクタフルオロ−2−ペンチン)を製造する工程を含む方法。 請求項3 脱ハロゲン化触媒の存在下にCF3CF2CCl=CFCF3(CFC−1419myx)を水素と反応させてCF3CF2C≡CCF3(オクタフルオロ−2−ペンチン)を製造する工程をさらに含む、請求項1に記載の方法。 請求項4 脱ハロゲン化触媒の存在下にCF3CF2CCl2CF2CF3(CFC−41−10mca)を水素と反応させてCF3CF2C≡CCF3(オクタフルオロ−2−ペンチン)を製造する工程を含む方法。 請求項5 圧力容器で、CF3CF2C≡CCF3を水素化触媒と反応させてCF3CF2CH=CHCF3(1,1,1,4,4,5,5,5−オクタフルオロ−2−ペンテン)を製造する工程をさらに含む、請求項2〜4のいずれか一項に記載の方法。 請求項6 水素化触媒がリンドラー触媒を含む、請求項5に記載の方法。 請求項7 CF3CF2CCl=CFCF3(CFC−1419myx)が触媒の存在下にCF2Cl2(CFC−12)とCF2=CF2(テトラフルオロエチレン)との付加反応によって製造される、請求項1に記載の方法。 請求項8 触媒がハロゲン化アルミニウム触媒である、請求項7に記載の方法。
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引用文献:
公开号 | 申请日 | 公开日 | 申请人 | 专利标题
法律状态:
2011-12-06| A521| Written amendment|Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111205 | 2011-12-06| A621| Written request for application examination|Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20111205 | 2013-04-20| A762| Written abandonment of application|Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A762 Effective date: 20130419 |
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